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半導體氣體過濾器
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高流量超純氣體擴散器 過濾器_擴散器過濾器_工藝潔凈過濾器

  • DF系列擴散器專用過濾器,專為半導體制程中真空腔體快速放氣應用進行設計。結合了擴散器的氣體流動特性和高效過濾器的顆粒攔截特性,擴散器專用過濾器過濾精度可達0.003μm。獨特的全316L不銹鋼結構,不僅確保高效過濾,更巧妙的規避了湍流產生,對工藝室環境造成影響,有效防止氣流吹起顆粒或者吹起硅片。可定制化設計,靈活適應各類安裝空間。
  • 產品詳情



DF系列擴散器專用過濾器、專為半導體制程中真空腔體快速放氣應用進行設計   穩壓、穩流、規避湍流

結合了擴散器的氣體流動特性和高效過濾器的顆粒攔截特性、擴散器專用過濾器過濾精度可達0.003um。

獨特的全316L不銹鋼結構、不僅確保高效過濾、更巧妙的規避了湍流產生、對工藝室環境造成影響、有效防止氣流吹起顆粒或者吹起硅片。

可定制化設計、靈活適應各類安裝空間。

產品特點

不銹鋼粉末燒結介質、可快速排氣

整體316L不銹鋼結構

減少工藝腔體排氣時的湍流

適用于多種工藝氣體

潔凈室環境內制造、測試、包裝

100%完整性測試通過

100%氨氣泄露檢測通過、耐高溫、耐高壓、耐腐蝕

防止微粒混入、幫助提高產品合格率可根據安裝空間進行設計

技術參數

濾芯材質316L不銹鋼粉末燒結殼體材質316L不銹鋼
表面處理內表面:Ras32um過濾精度um≥003um
最大進氣壓力4bar最大工作壓差5bar
最高使用溫度400°C下游潔凈度≥0.03particles/liter
@>0.01ym rated flow


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